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17.05.2018
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Erneute Auszeichnung für Class 5 Photonics

DESY-Start-up gewinnt den begehrten Laser Focus World Innovators Award

Die DESY-Ausgründung Class 5 Photonics ist für ihr Lasersystem „Supernova OPCPA“ mit dem „Laser Focus World Innovators Award“ 2018 in Gold in der Laser-Kategorie ausgezeichnet worden. Diese Auszeichnung ist eine bedeutende Anerkennung herausragender Produkte der Photonics Industrie und wird jährlich auf der CLEO Konferenz und Messe im US-amerikanischen San Jose (Kalifornien) vergeben.

V.l.n.r.: Klaus Schmidt, Robert Riedel und Michael Schulz von Class 5 Photonics mit Jeff Nichols von LaserFocusWorld. Foto: Class 5 Photonics
Die neuartigen Lasersysteme von Class 5 Photonics werden bereits weltweit in zahlreichen Forschungslaboren eingesetzt. Das Unternehmen konnte bereits im Januar dieses Jahres den Branchenpreis PRISM AWARD in der Kategorie Laser gewinnen. Der „Supernova OPCPA“ ist das Flaggschiffprodukt des Unternehmens und ermöglicht es Wissenschaftlern, ihre Experimente bis zu zehn Mal schneller durchzuführen.

Robert Riedel, CEO Class 5 Photonics freut sich über die erneute Ehrung: „Wir sind unglaublich stolz auf diese Auszeichnung. Der ‘Supernova OPCPA‘ konnte sich zum zweiten Mal gegen viele herausragende Konkurrenten als Gewinner durchsetzen – es zeigt wirklich, wie gefragt dieses Produkt ist. Dies ist ein enormer Ansporn für uns, so weiterzumachen und noch besser zu werden.“

Das Spin-off Class 5 Photonics wurde 2014 gegründet. Die Forscher von DESY und vom Helmholtz-Institut Jena, einer Außenstelle der GSI Helmholtzzentrum für Schwerionenforschung, entwickeln flexible Hochleistungslaser, die Pulse im Femtosekundenbereich erzeugen. Eine Femtosekunde (fs) ist eine billiardstel Sekunde. Der „Supernova OPCPA“ erlaubt mit einer Pulsenergie von einem Millijoule, einer Pulsrate von 100 Kilohertz und einer Leistung von 100 Watt bei einer Pulsdauer von weniger als 10 Femtosekunden Experimente, die zehn Mal schneller als mit konventionellen Titan-Saphir-Lasern sind. Derart kurze Laserpulse sind von großer Bedeutung für die Wissenschaft, eröffnen aber auch neue Anwendungen etwa bei der Wafer- und Maskeninspektion in der extrem-ultravioletten (EUV) Lithographie zur Herstellung von Mikrochips.